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                径流分子抽神针之中泵在多弧离子镀膜设备的最新应用

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                发表于 2018-5-3 16:18:49 | 显示全部楼层 |阅读模式
                径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用
                张永胜,储继国
                1. 亚智系力量统科技(苏州)有限棋牌安全吗,江苏苏州215011;
                2.深圳大学,深圳518060
                THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS
                ZHANG Yong-sheng,CHU Ji-guo
                1. Manz Coating GmbH,Suzhou Jiangsu 215011,China;
                2. Shenzhen University,Shenzhen 518060,China

                摘要 通过对新¤开发问世的径流分子泵进行介绍,其独特抽气特性,为多弧离々子镀的工艺优化提供了理论依据。传统多弧离子镀的抽气工艺和镀膜工艺,是在扩散泵和涡轮分子泵抽气◥能力的制约下总结出来而且自己还损失了三万军团的。径流泵机组的问□世,为多弧离子镀膜←提供了更加宽广的镀膜工艺选择空间。这样就№有必要对抽气工艺和镀膜工艺进行重组和优化,进一步提升多弧离子镀膜设备的性能和经济效〗益。

                关键词 : 多弧离子镀,  径流分子泵,  镀膜工艺,  抽气特性   

                Abstract:This paper introduces the newly developed radial molecular pump(RMP). The theory of process optimization isbased on the special pump curve. The pump process and the coating process were developed according to restricted diffusion pumps and the TMPs. After the RMP is developed,it can extend the process windows for arc ion plating coating.It is necessary to optimize the pump process and the coating process to make the coater performance better.

                Key words: arc ion plating           Radial Molecular Pumps(RMP)           coating process           pump speed

                作者简介: 张永胜(1983-),男,江苏省洪泽人,硕士,从事真■空镀膜、径流分子泵研究工作。

                引用本文: 张永胜,储继国. 径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用[J]. 真空与低温, 2016, 22(2): 111-113.       
                ZHANG Yong-sheng,CHU Ji-guo. THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS. journal1, 2016, 22(2): 111-113.

                文章来源:《真空与低温》杂志2016年22卷2期

                刊出日期:2016-04-30

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